直讀光譜儀的結果判定，通常采取下面的方法來驗證。其一，用準確的化學方法與直讀的結果進行對比。其二，用熟悉已知的標準樣品進行確認，比較化學值與直讀的結果即可。為了使分析結果更準確，必須盡量減小誤差。要減小誤差必須要對光電直讀光譜分析時的系統(tǒng)誤差和偶然誤差的來源進行探討，從而更有針對性的尋找減少誤差的方法，來提高分析結果的準確度。

系統(tǒng)誤差的來源 (1)分析試樣和標準樣品的組織狀態(tài)不同。在做固體金屬材料分析時，分析試樣和標準樣品的組織狀態(tài)不同是經常存在的(如澆鑄狀態(tài)的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓等狀態(tài)的鋼樣金屬組織結構是不相同的);因為組織結構的不同，在光電直讀光譜分析中某些元素測定的結果也不盡相同，從而引人了系統(tǒng)誤差。(2)試樣中除基體元素和分析元素以外的其他元素干擾。若標樣和試樣中的第三元素的含量和化學組成不完全相同，亦有可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引人系統(tǒng)誤差。(3)光譜標樣在化學分析定值時帶來的系統(tǒng)誤差。(4)未知元素譜線的重疊干擾。 (5)氫氣不純。當氫氣中含有氧和水蒸氣時，使激發(fā)斑點變壞;或氫氣管道與電極架有污染物排不出去，或有濁漏時，使分析結果變差，從而引人系統(tǒng)誤差。(6)鎢電極的影響。鎢電極的應當具有一定角度使光軸不得偏離ZX，放電間隙應當保持不變，否則聚焦在分光儀的譜線強度會改變。如:重復放電以后，鎢電極會長尖，改變了間隙放電距離;激發(fā)產生的金屬蒸氣也會污染透鏡表面，它們都能引人系統(tǒng)誤差。所以必須每激發(fā)一次后就要用刷子清理電極。 (7)透鏡的影響。透鏡內表面用來保持真空，常常受到來自真空泵油蒸氣的污染，外表面受到分析時產生金屬蒸氣的附著。使透過率明顯的降低，對鎮(zhèn)200 nm的碳、硫、磷譜線的透過率顯著降低。工作曲線的斜率降低，所以聚光鏡要進行定期清理。度，偶然誤差小，再現性(精密度)高。當沒有系統(tǒng)誤值與真值之間的差值。根據誤差的性質及其產生原  (8)電源電壓的影響。電源電壓的變化容易引起激發(fā)單元放電電壓的改變，電源電壓波動要求在10寫以內。 (9)分析過程中，工作條件等的變化沒有覺察出來，也會產生系統(tǒng)誤差。

偶然誤差的來源 ：(1)試樣成分不均勻。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同。不均勻性的主要原因是:冶煉過程中帶人夾雜物;在樣品熔煉過程中產生的偏析，造成樣品元素分布不均;試樣加工過程中夾人的砂粒和金屬元素、磨樣紋路出現交叉、試樣磨樣時過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素;試樣在取樣冷卻過程中的缺陷，如:氣孔、裂紋、砂眼等。 (2)試樣表面不平整。當試樣放在電極激發(fā)臺上時，不能有漏氣現象。如有漏氣，激發(fā)光室氣壓不穩(wěn)定，激發(fā)試樣的聲音也不正常，激發(fā)斑點變白，影響分析結果。(3)試樣厚度較薄。當試樣厚度較薄，磨樣時容易過燒，且激發(fā)試樣時容易激穿;由于太薄，試樣表面也很難平整，也影響薄樣所測結果。(4)分析樣品與控制標樣操作不一致。磨樣紋路粗細要一致，不可有交叉紋，磨樣用力不要過大，而且用力要均勻，力求操作一致，用力過大時，試樣磨樣過熱，容易造成試樣表面氧化。(5)試樣不具備一定代表性。如有偏析、裂紋、氣孔等缺陷。

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